簡(jiǎn)要描述：真空氣氛燒結(jié)爐廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)。

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
　　真空氣氛爐又名無(wú)氧退火爐、真空氣氛燒結(jié)爐等 物體在通入定氣體的爐膛內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)的方法。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結(jié)，有助于燒結(jié)過(guò)程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié)，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮?dú)夥諢Y(jié)。 有時(shí)為保護(hù)燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護(hù)氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。

氣氛爐用途：
　　真空氣氛爐滿足于不同工藝實(shí)驗(yàn)而殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備。

真空氣氛燒結(jié)爐原理：
　　真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，真空熱處理可以實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的果。

真空氣氛爐結(jié)構(gòu)：
　　一 、電氣部分：電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結(jié)構(gòu)，整個(gè)電氣元件安裝在爐體底部的側(cè)，結(jié)構(gòu)緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側(cè)面板上，觀察直觀，調(diào)節(jié)方便，溫控儀具有PID調(diào)節(jié)功能，可自動(dòng)跟蹤設(shè)定PID值，可任意設(shè)定測(cè)量分度密碼，同時(shí)具備補(bǔ)償功能，可使?fàn)t膛溫度與顯示值致。
　　二、爐體部分：爐膛采用莫來(lái)石聚輕磚砌筑，爐膛內(nèi)上下用碳化硅棚板，爐內(nèi)溫度是加熱元件在加熱過(guò)程中經(jīng)過(guò)碳化硅棚板傳導(dǎo)（暗火加熱），溫度更均勻。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門(mén)口設(shè)有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進(jìn)氣設(shè)爐膛底部，經(jīng)加熱腔預(yù)熱后分多處進(jìn)入爐內(nèi)，排氣經(jīng)爐頂后部排出。爐內(nèi)氣氛均勻，減小爐內(nèi)溫差。也就是說(shuō)，不論是電氣部分還是爐體部分，它們的結(jié)構(gòu)性能都是互相力的，具有統(tǒng)性，也是實(shí)現(xiàn)箱式氣氛爐功能的基本！